Obiettivo FUJIFILM XF 56mm f/1.2 R APD

Il FUJIFILM XF 56mm f/1.2 R APD presenta un design ottico unico, un campo visivo lusinghiero per ritratti e un'apertura massima particolarmente luminosa di f/1.2. Rispetto all'altro obiettivo FUJIFILM XF 56mm f/1.2, questa versione APD integra un filtro apodizzato per produrre una qualità di sfocato esteticamente gradevole, ideale per applicazioni di messa a fuoco selettiva.

A completare le caratteristiche uniche dello sfocato, il design ottico altrettanto sofisticato include elementi asferici e a bassissima dispersione per ridurre varie aberrazioni, frange cromatiche e distorsioni. Un rivestimento Super EBC riduce bagliori e fantasmi, migliorando contrasto e precisione cromatica in condizioni di luce intensa e controluce. Inoltre, l'obiettivo è dotato di un meccanismo di messa a fuoco interna per prestazioni rapide e un diaframma arrotondato a sette lamelle che contribuisce ulteriormente a uno sfocato piacevole.

• Obiettivo prime per ritratti progettato per fotocamere mirrorless Fujifilm X-mount con sensore APS-C, con lunghezza focale equivalente a 85 mm.
• Apertura massima particolarmente luminosa di f/1.2, eccellente in condizioni di scarsa illuminazione e con notevole controllo della profondità di campo per tecniche di messa a fuoco selettiva.
• Contraddistinto dalla sigla APD, questo obiettivo incorpora un filtro apodizzato per produrre uno sfocato controllabile ed esteticamente gradevole, caratterizzato da soggetti principali nitidi, uno sfondo estremamente sfocato e una qualità tridimensionale complessiva.
• Poiché il filtro apodizzato funziona al meglio con valori di apertura più ampi, nell'obiettivo è integrato un filtro ND da 3 stop per aiutare a controllare l'esposizione. Utilizzando due serie separate di valori di apertura, la serie rossa indica il valore di apertura effettivo in relazione alla profondità di campo. La serie bianca standard indica il numero f/stop reale; la differenza tra queste due serie indica l'efficacia del filtro.
• Un elemento asferico a doppia faccia limita distorsioni e aberrazioni sferiche per garantire maggiore nitidezza e resa accurata.
• Due elementi a bassissima dispersione riducono le frange di colore e le aberrazioni cromatiche per offrire maggiore nitidezza e precisione cromatica.
• Il rivestimento Super EBC è stato applicato ai singoli elementi per ridurre bagliori e immagini fantasma, migliorando contrasto e fedeltà cromatica in condizioni di luce intensa.
• Il design a messa a fuoco interna garantisce prestazioni AF rapide e silenziose, vantaggiose sia per foto che per video.
• Il diaframma arrotondato a sette lamelle contribuisce a una piacevole qualità dello sfocato, a vantaggio dell'uso della messa a fuoco selettiva e della ridotta profondità di campo.